中国半导体光刻设备研究达到了什么水平?

作者: 理财规划小编   2019-11-13 14:27

    在芯片制造中,需用到两种设备,一种是光刻机,一种是刻蚀机,很多人都将这两种设备搞混了,以为就是一种,但其实是完全不同的设备。

    光刻机是指用光做介质,在硅晶圆上,刻画出电路来,这种设备难度大很多。
 
    而刻蚀机是光刻后的另一道工序,是在光刻机刻画过的硅晶圆上,把没有刻画的部分,去除掉,只保留住光刻机刻画过的部分,介质可以是液体,也可以是光。
 
    可见,这两种设备作用其实是有点相反的,一种是刻画,一种是腐蚀的意思,完全不一样的,大家不要混到一起了。
 
    目前的刻蚀机技术,中国处于世界领先水平,中微半导体生产的刻蚀机可以使用在5nm的芯片制造中,属于最领先的企业之一了,从技术上来看并没有落后。
 
    当然从市场上来看,就落后了,中微半导体最多占5%的份额,另外和日本的厂商占了90%以上的份额。
 
    但光刻机就不一样了,ASML的极紫外光刻机,也就是EUV光刻机,可用于5nm芯片的生产制造。
 
    而中国最先进的光刻机生产厂商是上海微电子(SMEE),目前他们能够生产的的最高端的光刻机还只能用于90nm芯片的制造,从90nm到5nm,这中间的差距有多大?至少是10年吧。毕竟10年前ASML就已经不只是在生产90nm的光刻机了。
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